科技强国从升级镜头开始 - 123.第122章 三大件的解决方案

    第122章 三大件的解决方案
    euv光刻机的核心技术，主要由三大系统构成。
    首先是euv光源系统，这个系统负责制造光刻过程中，需要用到的特殊光线。
    从第一代的uv光刻机，到第五代的euv光刻机，光线的波长也从436nm，缩短到了13.5nm，目前所有的光刻机，就是通过光线的不同，来区分技术等级的。
    这其中主要涉及到的原理，就是光学中光线波长和清晰度的关系。
    最简单的道理，就是进入黄色的钨丝灯房间，大部分人都会感觉视线昏暗，
    哪怕多加几个灯泡，也始终感觉没有白色的led灯那么明亮和清晰。
    这就是因为黄色光的波长，要远高于白色光，
    光线的波长，就像是海浪一样，越大的波浪，拍打在海防堤上的水位高低起伏就越大。
    而这个水位的高低落差，换成在光学领域，就成了影响阴影边缘清晰度的重要因素。
    因此，想要达到越小制程的芯片工艺，就需要波长越短，越无限接近绝对直线的光。
    而在euv光源技术上，据康驰目前所能查到的资料来看，国内的常春光所应该也已经接近突破的边缘了，但具体到了哪一步，康驰也不清楚。
    他打算先试着了解一下情况，
    如果条件允许，价格合适的话，他可能会直接向他们进行采购，
    哪怕技术稍微不达标，采购过来自己再进行改良优化，也能节省大量的时间和精力。
    毕竟一台光刻机里面，有足足十几二十万的零部件，全靠大唐重工自己来做的话，那得搞到猴年马月去。
    而向他们采购，既不浪费他们的科研成果，还能利用上他们的生产力，
    也算是共赢了。
    所以康驰这次，并不排斥自己成为组装、调试和改良的角色。
    放着华国这么完整的产业链不用，反倒自己去搓每个螺丝，不但浪费国内这么好资源和基础，更是闭门造车吃独食的表现。
    而能用本国的产业链，来完成一台光刻机的所有零件制造，全球有且只有一个国家才有可能做到，
    那就是华国。
    换成老m也不行。
    他们也没办法只在本国，就找到光刻机全部零部件的供应商，得全球多国合作协同才行。
    而巨大的资源协调成本，更是会大大加重整个研发项目的费用和时间，
    这也是华国的很多产品，能做到成本远低于国外厂商的主要原因之一。
    总之，无论常春光所有没有突破euv光源的技术，康驰都可以尝试着借用他的研发制造能力，来迅速获得一套可行的光源系统。
    现在光刻的光有了，
    下一步就是把光，通过一个光学系统，收集并投影到涂上了光刻胶的硅片上面。
    这个光学系统，也是整台光刻机中，造价成本占比最大的。
    这部分康驰准备对大秦光学的镜头生产线，进行升级，然后把它给拆了，直接获得光刻机镜片和反射镜制造，所需要的大部分设备零件。
    这么做的效率无疑会高很多，
    而且升级后的生产线，估计连解析项目都没有，
    因为里面的大部分技术，康驰在解析光刻机的时候，就已经得到了，他本人拥有非常大的解释空间。
    唯一的缺点就是，需要他在接下的项目中，进行一定的混淆视听，把这些拆分开的组件，神不知鬼不觉地掺到整个项目里去。
    嗯，
    就是欺负严辉他们对光刻机没啥研究，
    到时候估计也是康驰让他们干什么，他们就干什么，思考空间并不多。
    至于光刻机最后的一个关键系统，则是承载硅片的双工件台系统。
    它的工作原理很简单，就是在光刻中不断的挪动硅片的曝光部位，但其中的技术含量其实非常大。
    因为这个工作平台必须快、准、狠。
    速度，决定了光刻机的效率，
    移动太慢了，光刻机的产量就不行，
    这就要求它，在高速移动后，还得迅速且精准地停下，
    停留的位置误差，还得在1nm以内，
    但凡偏差大一点，整个晶圆就直接报废了！
    这啥概念？
    大概就是一辆高速行驶的汽车，突然紧急刹停，然后停下位置误差还不能超过1毫米。
    不过这个难点，在今年5月份的时候，刚好被铪工大给搞定了，
    他们研发出来的真空高速超精激光干涉仪，位移的分辨率达到了惊人的5pm，位移误差控制在了30pm！
    要知道，1000pm才等于1nm！
    0.03nm的位移误差，简直牛逼到不行！
    康驰简直怀疑，他们是不是和自己一样开了挂……
    讲真，华国能人还是挺多的，
    如果不靠系统，康驰自己虽然也有一定的把握可以攻克这种技术，但时间就不知道要多久了……
    所以康驰一直也不断地在提醒自己，虽然系统确实好用，但自己学习和理解的脚步同样不能停下。
    这不但是为了在解析技术的时候，减轻自己的痛苦，免得突然暴毙，更是为以后万一出现精通点不够，需要自研的情况出现时，不至于两眼一抹黑啥也干不了。
    总之euv光刻机的大部分技术难点，其实华国都已经攻克或即将攻克了，只不过具体哪些能够复刻落地量产，还是个未知数。
    为了得到答案，康驰特地打了个电话给吕首长。
    当听到康驰问光刻机的事情，吕首长顿时就打起了精神，连忙问道：“你准备搞光刻机研发？”
    “嗯，有这个想法。”
    “搞光刻机好啊！嗯……不过你不是忙着量产采油虫吗？哪来这么多的时间精力研发光刻机？”
    “抽空玩玩呗……”
    “……”
    随后康驰又在吕首长的沉默中，咨询了关于常春光所euv光源系统，和铪工大双工件台系统研究情况。
    “嗯……他们确实都有了一定的突破，但具体到了什么技术节点，还有多久能实际落地，我也说不准……你可以找张院士问问，这方面他比较清楚。”
    于是康驰挂了电话后，又拨通了张达远的电话，
    结果张达远一听康驰的问题，直接就说电话上讲不清楚，让他过去燕京面谈。
    康驰强烈怀疑，这老头就是想把他骗过去，忽悠他搞那个啥稳态微聚束光源，
    但为了争取缩短光刻机研制周期的机会，康驰也不得不从了他……
    反正过去后任他怎么说，康驰就是不跟他干，
    他还能把康驰给扣了不成？
    ……
    经过了两个多小时飞行，康驰在天黑前就抵达了燕京国际机场，
    前来接机的是陈海的同事，三人汇合后，便直奔heps项目部。
    经过层层安检和报备，康驰终于项目部里面，见到了带着安全帽，穿得像工地工人的张达远。
    看到这个已经年近七十的老人，竟然还能精神抖擞地深居一线，亲自参与实验工程的建设，康驰也不禁感到有些佩服。
    “张院士，好久不见了。”
    刚见面，康驰便主动和他握了握手，赞叹道：“您可真是宝刀未老啊。”
    “那必须的。”张达远得意地拉着康驰，“走走走，先带伱参观参观。”
    面对张达远的热情，康驰自然也不好拒绝，
    何况他本人，其实对这里也挺好奇的，于是便跟着张达远，在这个正在建设中的高能同步辐射光源里面，简单地转了一圈。
    上一章差点被4，好在修改后放出来了。
    估计如果写的太细太贴近事实，非常容易被4……
    稳妥起见，接下来在技术和节点，可能会简单带过，
    然后稍微夸张点，反正牛逼就完事了。
    希望大家不用去较真找茬，就当是我瞎几把乱吹好了。
    嗯，
    事实上，我就是在吹牛逼，真的！
    (本章完)